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    • LED合金炉

      现在联系LED合金炉‍ LED合金炉特点 : ◆ 关键件全部采用进口件,具有高可靠性 ◆ 具有可编程的升、降温功能 ◆ 具有断电报警、超温报警、极限超温报警等多种安全保护功能。 ◆ 具有高抗干扰能力 ◆ 具有多种工艺管路,可供用户随意灵活配置

    • 砷化镓VGF单晶炉

      现在联系砷化镓VGF单晶炉产品应用:主要用于2~6英寸锗单晶、砷化镓等化合物晶体的生长 产品特点: ◆工业计算机控制系统(WINDOWS 系统界面,操作方便简洁) ◆关键部件均采用进口,确保设备的高可靠性 ◆控温精度高,温区控温稳定性好 ◆具有断电报警、超温/欠温报警

    • 砷化镓单晶炉

      现在联系砷化镓单晶炉VGF 、HB 、HGF 、VB产品特点: ★用于GaAs等化合物晶体的生长 ★按结构形式:垂直生长,水平生长 ★按生长方式:梯度生长及移动生长 ★晶体生长尺寸::2-6寸 ★设备分类:HB 、HGF 、VGF

    • 磁性材料真空烧结炉

      现在联系磁性材料真空烧结炉主要技术指标: ◆钐钴退火每炉15-150公斤,烧结每炉35公斤 ◆工作温度及均匀度:1000℃/1250℃±1.5℃ ◆真空度:5.0×10-1Pa(退火)/5.0×10-3Pa(烧结) ◆满足工艺要求的均匀升温、冷却 ◆控制方式:触摸屏、工控机

    • LPCVD扩散炉

      现在联系LPCVD扩散炉一。 设备概述: LPCVD低压化学气相淀积是半导体集成电路制造的重要工序之一,本设备主要用于:4-6英寸硅片LTO=二氧化硅、SIPOS=含氧多晶硅、SI3N4=氮化硅、PSG=磷硅玻璃、POLY=多晶硅薄膜的生长。它是将原材料气体(或者液态源气化)用热能激活发生化学反应

    • 链式隧道炉

      现在联系链式隧道炉一、产品描述: 设备是通过热的传导、对流完成对工件的热处理等工艺生产,设备可根据生产工艺的要求设计设备的长度等结构,炉膛内有一条连续运行的输送系统,工件通过输送网带运行于炉膛工作室内,完成工件的相关热处理生产,该设备连续式生产,生产效率高、节省人力、一致性高。 二、指

    • 链式烘干炉

      现在联系链式烘干炉链式烘干炉 主要用于半导体器件、集成电路金属化管壳等气密性封装,玻璃容器及各种零件在氢氮保护下进行的烘干、固化,运载能力大,并采用水、气电转换器控制传感报警及超温保护报警功能。YH-G系列链式炉设有自动点火装置,并有断水报警、断N2报警、断H2报警、点火断报警、停带报警、水温高报

    • 红外线烘干炉

      现在联系红外线烘干炉适用范围: 广泛用于铝合金锻造、弹簧、模具、塑胶、玻璃、电子、塑木型材、再流焊、印制电路、电子元件、粉体材料的烘干、固化和排胶、如环氧固化、厚膜干燥等领域。 技术指标: 1、采用SR1/3/4系列仪表,采用多区控温,PID智能数显温度控制仪,全新数码显示、智能控

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